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M1100 是维开科技开发的一款大尺寸生产型磁控溅射系统,功能强大,稳定可靠,自动化控制程度高,维护简单,可以满足大尺寸样品或大批量生产需求和实验平台的特殊需求。 § 不锈钢真空腔:1100mm(宽)*750mm(高) § 均匀可镀区:最大?900mm § 镀膜均匀性:±2% § 极限真空度:1E-5Pa § 工件盘控温: 室温至300℃ § 偏压:射频/脉冲直流 § 溅射靶枪:最多5个 § 溅射电源:直流/射频/脉冲直流,可自由切换 § 离子源:可选配直流/射频离子源 § 抽气系统:低温泵/磁悬浮分子泵+干式机械泵/普通机械泵 § 真空检测:全量程真空规+薄膜真空规 § 流量控制:数字式质量流量计 § 占地面积:2.5m(长)*2.8m(宽)*2.8m(高)
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