M800是维开科技开发的一款高精度型磁控溅射系统，镀膜均匀性高，维护简单，可以满足批量生产需求和实验室对高精度/反应型磁控溅射工艺的需求。

§ 不锈钢真空腔：800mm（宽）*550mm（高）

§ 均匀可镀区： 5*?300mm

§ 镀膜均匀性：±0.5%

§ 极限真空度：1E-5Pa

§ 工件盘控温：室温至350℃

§ 偏压：射频/脉冲直流

§ 溅射靶枪：最多6个

§ 溅射电源：直流/射频/脉冲直流，可自由切换

§ 离子源：可选配直流/射频离子源

§ 抽气系统：低温泵/磁悬浮分子泵+干式机械泵/普通机械泵

§ 进样室：可选配全自动进样室

§ 真空检测：全量程真空规+薄膜真空规

§ 流量控制：数字式质量流量计

§ 占地面积：1.8m（长）*2m（宽）*2.2m（高）

　如需详细信息，敬请　联系我们