I2000 是维开科技开发的一款链式生产型磁控溅射系统，镀膜面积大，工作稳定，自动化控制程度高，维护简单，可以满足大批量生产需求和大尺寸工件溅射镀膜的需求。

§ 不锈钢真空腔：2200mm（长）*950mm（宽）*200mm（高）

§ 均匀可镀区：600mm（长）*600mm（宽）

§ 镀膜均匀性：±5%

§ 极限真空度：1E-5Pa

§ 工件盘控温：室温至350℃

§ 偏压：射频/脉冲直流

§ 溅射靶枪：最多5个

§ 溅射电源：直流/射频/脉冲直流，可自由切换

§ 离子源：可选配直流/射频离子源

§ 抽气系统：低温泵/磁悬浮分子泵+干式机械泵/普通机械泵

§ 进样室：可选配全自动进样室

§ 真空检测：全量程真空规+薄膜真空规

§ 流量控制：数字式质量流量计

§ 占地面积：2.5m（长）*1.5m（宽）*1.7m（高）

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