M600 是维开科技开发的一款通用型磁控溅射系统，功能强大，稳定可靠，自动化控制程度高，维护简单，可广泛满足生产和研发中对磁控溅射的工艺需求。

§ 不锈钢真空腔：600mm（宽）*550mm（高）

§ 均匀可镀区：最大?300mm

§ 镀膜均匀性：±2%

§ 极限真空度：9E-6Pa

§ 工件盘控温： -50℃至800℃

§ 偏压：射频/脉冲直流

§ 溅射靶枪：最多5个

§ 溅射电源：直流/射频/脉冲直流，可自由切换

§ 抽气系统：低温泵/磁悬浮分子泵+干式机械泵/普通机械泵

§ 进样室：可选配全自动进样室

§ 真空检测：全量程真空规+薄膜真空规

§ 流量控制：数字式质量流量计

§ 占地面积：1.8m（长）*1.8m（宽）*2.2m（高）

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