E500D是维开科技开发的一款研发型电子束蒸发系统，上下两个炉腔，互为进样室，有效解决蒸发设备不易配进样室的问题，可以满足中小批量生产需求和实验平台的一般性需求。

§ 不锈钢真空腔：两个500mm（宽）*500mm（高）的真空腔

§ 均匀可镀区：最大?200mm

§ 镀膜均匀性：±2%

§ 极限真空度：1E-5Pa

§ 工件盘控温： -50℃至800℃

§ 电子枪功率：最大10千瓦

§ 坩埚数量：最多6个

§ 电阻蒸发源：可选配

§ 膜厚监控：晶振控制器

§ 挂具类型：穹顶式/行星式/平盘/克努曾

§ 抽气系统：低温泵/磁悬浮分子泵+干式机械泵/普通机械泵

§ 工件角度：-45°至+45°可调

§ 真空检测：全量程真空规

§ 占地面积：1.5m（长）*1.5m（宽）*2.2m（高）

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