T550I是维开科技为高质量的铟柱沉积工艺开发的一款专用电阻蒸发系统，功能强大，稳定可靠，自动化控制程度高，维护简单，可以满足专业的铟柱沉积工艺需求。

§ 不锈钢真空腔：550mm（宽）*950mm（高）

§ 均匀可镀区：最大?200mm

§ 镀膜均匀性：±3%

§ 极限真空度：1E-5Pa

§ 电阻源功率：最大8千瓦

§ 坩埚数量：最多2个

§ 离子源：可选配

§ 膜厚监控：晶振控制器

§ 抽气系统：低温泵/磁悬浮分子泵+干式机械泵/普通机械泵

§ 真空检测：全量程真空规

§ 占地面积：1.5m（长）*1.5m（宽）*2.2m（高）

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