Ion500E 是维开科技开发的一款通用型离子束刻蚀系统，功能强大，稳定可靠，自动化控制程度高，维护简单，可以满足中小批量生产需求和实验平台的一般性需求。

§ 不锈钢真空腔：500mm（宽）*500mm（高）

§ 均匀刻蚀区：最大?150mm

§ 刻蚀均匀性：±5%

§ 极限真空度：1E-5Pa

§ 工件盘控温：室温至500℃

§ 偏压：射频/脉冲直流

§ 离子源：可选配直流/射频离子源

§ 抽气系统：低温泵/磁悬浮分子泵+干式机械泵/普通机械泵

§ 真空检测：全量程真空规+薄膜真空规

§ 流量控制：数字式质量流量计

§ 占地面积：1.5m（长）*1.8m（宽）*2.1m（高）

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