C500是维开科技开发的一款生产型多腔室集成系统，功能强大，可扩展性强，稳定可靠，自动化控制程度高，可以满足半导体级别的批量生产需求。

§ 真空工艺腔：6个独立工艺腔室

§ 真空进样室：2个独立样品进样腔室

§ 工艺条件：磁控溅射/刻蚀/离子束/蒸发可选

§ 均匀镀膜区： ?300mm

§ 均匀刻蚀区： ?250mm

§ 镀膜/刻蚀均匀性：±5%

§ 极限真空度：1E-5Pa

§ 工件盘控温： -50℃至800℃

§ 自动进样室：集成BROOKS系统

§ 离子源：可选配直流/射频离子源

§ 抽气系统：低温泵/磁悬浮分子泵+干式机械泵/普通机械泵

§ 真空检测：全量程真空规+薄膜真空规

§ 流量控制：数字式质量流量计

§ 占地面积：3.5m（长）*3.5m（宽）*1.7m（高）

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