C500T是维开科技开发的一款实验型多腔室超高真空集成系统，功能强大，可扩展性强，稳定可靠，可以满足材料科学研究的各种特殊工艺需求。

§ 真空工艺腔：5个独立小型工艺腔室

§ 真空进样室：手动独立样品进样机构

§ 工艺条件：磁控溅射/刻蚀/离子束/蒸发/ALD/MBE可选

§ 均匀镀膜区： ?50mm

§ 均匀刻蚀区： ?25mm

§ 极限真空度：1E-7Pa

§ 工件盘控温： -50℃至1200℃

§ 检测条件：集成AES/XPS/光谱仪等系统

§ 离子源：可选配

§ 抽气系统：离子泵+磁悬浮分子泵+干式机械泵

§ 真空检测：UHV真空规+薄膜真空规

§ 流量控制：数字式质量流量计

§ 占地面积：根据需求订制

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