V550 反应溅射系统是维开科技开发的一款离子源增强型反应溅射系统，可灵活编辑工艺，反应程度高，膜层损伤小，自动化控制程度高，维护简单，可以满足企业和研究所研发小批量生产需求，并可选配多片自动进样室，有效提高生产和研发效率。

§ 不锈钢真空腔： 550mm（宽）*550mm（高）

§ 均匀可镀区：最大?200mm

§ 镀膜均匀性：±1%

§ 极限真空度：1E-5Pa

§ 工件盘控温： -50℃至800℃

§ 偏压：射频/脉冲直流

§ 溅射靶枪：最多4个

§ 溅射电源：直流/射频/脉冲直流，可自由切换

§ 抽气系统：低温泵/磁悬浮分子泵+干式机械泵/普通机械泵

§ 进样室：可选配全自动进样室

§ 真空检测：全量程真空规+薄膜真空规

§ 流量控制：数字式质量流量计

§ 占地面积：2.2m（长）*1.8m（宽）*2.1m（高）

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